ADMETAPlus2024

Advanced Metallization Conference 2024
33rd Asian Session

講演テーマ

[対象領域]
Integration:配線構造,配線性能,評価・解析技術 など
Reliability Science and Failure Analysis:EM,SIV,TDDB,欠陥検査,モデリング など
Metallization:成膜技術,配線材料,バリアメタル など
Low-k Dielectric:成膜方法,膜特性,新材料,構造(Air gap 他),評価技術 など
CMP:平坦化,スラリー,パッド,ドレス,洗浄,防食 など
Contact:シリサイド,浅接合,電子物性,固相反応,結晶物性 など
MEMS/RF:配線構造・材料,パッケージング,製造プロセス,デバイス など
Emerging Technology:アクティブ配線,パワーエレクトロニクス,シリコンフォトニクス,フレキシブルエレクトロニクス,エネルギーハーベスティング など
Backend Devices:多層配線混載デバイス (MRAM,PCRAM,ReRAM 他),電極技術,新材料 など
Nanocarbon Interconnects:グラフェン,ナノチューブ,プロセス,インテグレーション,信頼性 など
3D and Packaging:TSV,TMV,形成プロセス,積層プロセス(COW,WOW),薄化・平坦化,接着,バンプ,応力・熱解析,封止,冷却,信頼性 など

ページトップへ矢印